SEM/EDS

扫描式电子显微镜(Scanning Electron Microscope, SEM)简称扫描电镜,主要利用电子光学系统将电子枪产生的电子聚焦成一微小的电子束至样品表面,并利用扫描线圈使其在样品表面上扫描。

电子束与样品间的交互作用会激发出各种讯号,如: 二次电子、背向散射电子及特性X光等,SEM主要就是收集二次电子的讯号来成像。由于SEM分辨率高,放大倍率可达到数十万倍以上,且景深大,主要是用来观察样品表面及剖面微结构,在设备上加装能量分散X光谱仪(Energy Dispersive Spectrometer, EDS)时,可对样品表面同时进行材料的元素分析,包括定性、半定量之元素分析以及特定区域之点、线、面的Mapping扫描。

应用于各种材料表面的微结构观察。

使用SEM本身量测功能,可提供精准的尺寸量测,如镀层厚度、锡须长度测试。

EDS可对样品表面进行材料的元素分析,包括定性、半定量之元素分析以及特定区域之点、线、面的Mapping扫描;是常用的失效分析手段之一。

使用设备

HITACHI SU8220

HITACHI SU8220
电子枪Cold FE
分辨率0.8nm (加速电压15kV) ,1.1nm(加速电压1kV)
倍率20~1000k (取决HV电子束电压&WD工作距离)
加速电压0.01~30kV

样品的导电性能对测试结果影响较大,不导电材质需要先做喷铂或喷金处理。

SEM形貌观测
金属材料碳纤维材料
芯片截面锡须长度测量
IMC厚度测量
点的EDS元素分析
EDS元素Mapping
 

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